了解去光阻及蝕刻(striping&etching) | 私立大學五星教授網

光阻劑（英語：photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指經過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射後，溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料，是微影製程中 ...

光阻，亦稱為光阻劑，是一個用在許多工業制程上的光敏材料。像是光刻技術，可以在材料表面刻上一個圖案的被覆層。光阻有兩種，正向光阻(positive photoresist)和負向光 ...

光阻劑（英語：photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指經過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射後，溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料，是微影製程中 ...

光阻. 教科書名詞 高中以下化學名詞 · photoresist · 光阻劑. 學術名詞 材料科學名詞 · photoresist · 光阻；感光抗膜. 以光阻進行詞彙精確檢索結果. 出處/學術領域. 英文 ...

列出組成光阻(photoresist)的四個成分. •敘述正光阻(+PR)和負光阻(−PR)的差異. •敘述微影製程(photolithography)的順序. •列出四種對準(alignment)和曝光(exposure) ...

2020年5月19日 — ... 光阻剝除程序方能讓凸塊露出來。因為光阻材料為耐酸不耐鹼的物質，所以製作電路板時，常用氫氧化鈉之類的強鹼溶液剝除電鍍光阻材料，效果也非常好。

▫ 顯影劑溶解光阻軟化之部分，並將光罩或. 倍縮光罩上的圖案轉到光阻上. ▫ 三個基本步驟: 顯影, 洗滌, 旋乾. 正光阻. 負光阻. 顯影劑. TMAH. 二甲苯. 洗滌. 去離子水.

光阻劑有正光阻劑和負光阻劑二種。正光阻劑在UV曝光後，暴露的部分會溶於水性的顯 ... 英文詞彙. 中文詞彙. 學術名詞 化學名詞-兩岸中小學教科書名詞 · photoresist · 光阻劑.

LONGLITE® Liquid Photo Resist為負型、水溶性液態光阻劑，針對滾輪塗佈機台（水平式或垂直式）而設計，具有優異之解像性與密著性，適用於酸性蝕刻印刷電路板製程。 E-mail ...

2005年10月28日 — 光阻--->photoresist [/B][/QUOTE] 感謝回覆.............. [:I] 說實在我也不知道, 因為只有給我這些名詞, 另外, 洗淨液的英文是不是cleaner 或是 ...