TEM

與掃瞄式電子顯微鏡成像原理不同的.是,穿透式電子顯微鏡是利用高能電子束(一般約在100keV~1MeV)穿透厚度低於100nm.以下之薄樣品,和薄樣品內的各種組織產生不同程度 ...

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與掃瞄式電子顯微鏡成像原理不同的. 是,穿透式電子顯微鏡是利用高能電子束(一般約在100keV~1MeV)穿透厚度低於100nm. 以下之薄樣品,和薄樣品內的各種組織產生不同程度 ...

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