磊晶設備MOCVD :: 私立大學五星教授網

MOCVD對鍍膜成分、晶相等品質容易控制，可在形狀複雜的基材、襯底、上形成均勻鍍膜，結構密緻，附著力良好之優點，因此MOCVD已經成為工業界主要的鍍膜技術。

有機金屬化學氣相沉積法 | 私立大學五星教授網
有機金屬化學氣相沉積法(MOCVD, Metal-organic Chemical Vapor Deposition)，是在基板上成長半導體薄膜的一種方法。 ... 而後面三個字母CVD 或是VPE，指的是所成長的 ...
MOCVD 有機金屬化學氣相沉澱設備 | 私立大學五星教授網
2020年10月13日 — MOCVD是一種半導體製程所需的設備，半導體製程的設備只有歐美日國家會製造，因為他們的規格要求都非常之高。我國的工程師經過很多年的研究，終於有了這種 ...
半導體薄膜材料有機金屬化學氣相沉積反應器之氣體動力 ... | 私立大學五星教授網
Metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) or vapor phase epitaxy (MOVPE) is a critical process for preparation of compound semiconductor thin-films.
產品技術 | 私立大學五星教授網
MOCVD全稱是Metal-Organic Chemical Vapour Deposition（金屬有機化學氣相沉積設備），是在基板上生長電晶體薄膜的一種科技。利用MOCVD科技，許多納米層可以以極高的 ...
有機金屬氣相磊晶系統及技術簡介 | 私立大學五星教授網
MOCVD 廠內裝設有多組毒氣偵測儀(toxic gas monitor)，經常性檢測各種毒氣的洩漏量，並做監. 測報告。檢測點至少分別位於反應腔櫃內、幫浦. 端、氫化物鋼瓶櫃抽風管內 ...
磊晶設備MOCVD | 私立大學五星教授網
MOCVD對鍍膜成分、晶相等品質容易控制，可在形狀複雜的基材、襯底、上形成均勻鍍膜，結構密緻，附著力良好之優點，因此MOCVD已經成為工業界主要的鍍膜技術。
MOCVD 磊晶軟硬體關鍵模組技術 | 私立大學五星教授網
MOCVD磊晶製程發展至今已有50年，全球仍僅有威科（Veeco）、愛思強（AIXTRON）這兩家業者，就是因為磊晶製程是多重物理化學耦合現象，包含三五族氣體、高達攝氏一千度的 ...
MOCVD創新進氣系統設計模擬分析 | 私立大學五星教授網
由房子陽著作 · 2015 — 有機金屬化學氣相沉積法（Metal–Organic Chemical Vapor Deposition, MOCVD）為目前製作LED最重要的技術之一，各家廠商使用不同的進氣方式與腔體設計使得腔體中可以有 ...
MOCVD Epitaxy | 私立大學五星教授網
有機金屬化學氣相沉積法(MOCVD, Metal-organic Chemical Vapor Deposition)，是在基板上成長半導體薄膜(磊晶Epitaxy) 的先進半導體技術。磊晶的品質決定了光電、電子 ...