側壁空間層.WCVD.TiN.CVD.ARC:反射層鍍膜;IMD:金屬層間介電質層;PMD:金屬沈積前的介電質層;.STI:淺溝槽絕緣;LDD:低摻雜汲極;ILD:金屬層間介電質層.Page2 ...
側壁空間層. WCVD. TiN. CVD. ARC: 反射層鍍膜; IMD: 金屬層間介電質層; PMD: 金屬沈積前的介電質層;. STI: 淺溝槽絕緣; LDD: 低摻雜汲極; ILD:金屬層間介電質層. Page 2 ...【明志科技大學材料工程系】阮弼群專任教授評價
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