半導體製程類設備 | 私立大學五星教授網

• 於光阻旋轉塗佈前進行HMDS蒸氣塗佈. • 在預烤製程中通常以臨場方式沈積. • 在光阻塗佈前以冷卻平板冷卻. 微影製程，底漆層. Page 8. 15. 底漆層蒸氣塗佈. 脫水烘烤. 晶圓.

由 吳政三 著作 · 2012 — 曝光機的原理和照相機基本上是類似的，完成光阻塗佈的晶圓. 就如同底片一樣，而光罩就是我們要照的影像，只是曝光機的解析. 度比照相機好很多而且也複雜很多。曝光機可分成 ...

2016年9月21日 — ... 光阻液被離心力甩開，在表面形成大約1μm的光阻層，光阻塗佈機的原理請參考這裡。 ➤軟烤(Soft baking)：以烤箱加熱使光阻中的溶劑揮發，此時光阻還有點軟 ...

2020年8月26日 — 光阻劑為晶圓代工廠中，於微影製程之前，所需塗佈於晶元上之關鍵材料，如此晶圓方能進行後續電路加工製作，為更明確說明光阻劑於複雜的IC生產流程之使用 ...

由 吳國裕 著作 · 2007 · 被引用 1 次 — 其主要製程模組有上黏著劑槽（HMDS），使光阻與晶片能緊緊的貼牢；. 光阻塗佈槽（Coater）使光阻能均勻的塗 ... 化學倍增式光阻劑的反應原理乃透過帶能量的光源或粒. 子，與 ...

CSE S-470主要是用來作半導體黃光製程的光阻塗佈。Spin Coating是最廣為用來上光 ... 曝光機主要原理是利用紫外線通過光罩、底片等圖案模版，並搭配顯影劑使用，去除晶 ...

若光阻與光罩的間距10µm，入射光的波長. 400nm而言，最小線寬約為3µm，故解析度變差. Page 18. Show-Fann Lin. 投射式對準. （projection align）. 類似投影機原理，將光罩 ...

實驗原理：. 光阻可分為正、負光阻，和曝光部分是否會溶於特殊溶液有關。對正光阻 ... 溶劑可讓光阻保持容液狀態使光阻可以旋舖方式塗佈在基板上。樹脂提供光阻的粘著性 ...

光阻 編輯. 主條目：光阻. 微影製程中採用的感光物質被稱為光阻，主要分為正光阻和負光阻兩種。正光阻未被光照的部分在顯影後會被保留，而負光阻膠被感光的部分在顯影後 ...