國產設備於化合物半導體領域的機會研析 | 私立大學五星教授網

2008年7月22日 — MOCVD的應用範圍 · 1、 鈣鈦礦氧化物如PZT、SBT、CeMnO2等； · 2、 鐵電薄膜； · 3、 ZnO透明導電薄膜、用於藍光LED的n-ZnO和p-ZnO、用於TFT的ZnO、ZnO ...

2020年10月13日 — 這種設備的英文名字是MOCVD（Metal Organic Chemical Vapor Phase Deposition），這種設備過去都要靠進口，而且價格非常昂貴。我國現在已經有了國產的 ...

流量控制在MOCVD 應用中很重要。 閱讀故事，了解流量控制如何幫助我們的客戶提高LED 產品質量。

此技術也與竹科大廠合作驗證MOCVD機台GaN層模擬、矽薄膜多重物理耦合模擬，準確度達90%以上，平均厚度誤差值控制在5%內，未來可結合設備推廣應用。 特色與創新. 軟硬 ...

本文以氣體動力學觀點. 以及作者近年相關之研究，針對各式MOCVD 反應器說明熱流管控技術以及影響MOCVD ... (1) 專論化學氣相沉積之原理與應用。Hurle 於1993. 至1994 年發行 ...

該設備已應用於國內眾多領先的LED生產線。 中微具有自主知識產權的MOCVD設備PRISMO HiT3 ®， 是適用於高品質氮化鋁和高鋁組分資料生長的關鍵設備。 在不到三年的時間裏，中 ...

2021年9月22日 — MOCVD設備腔體的設計，依照氣體傳送方式，分為噴灑式與匯流排式進氣兩種，各別被領導廠商Aixtron與Veeco採用。 Aixtron 2020年營收以設備的終端應用區分， ...

有機金屬化學氣相沉積/MOCVD. ENI HT-200U MOCVD為台灣與韓國共同開發，高溫MOCVD,其生長溫度在於≤1400°C,其高溫特性主要應用在異質介面的生長。目前該設備用在氮化鎵 ...