半導體微影製程設備新興技術發展與產業觀察 | 私立大學五星教授網

IC的製程簡單來說，是在矽晶圓上製造出一個電路構造，其中包括許多半導體元件，以及彼此連接的金屬線等。這個製造過程極其複雜，因為我們必須在晶圓上放上各式各樣的 ...

微影製程（英語：photolithography 或optical lithography，中國大陸稱為光刻工藝）是半導體元件製造製程中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光阻層上刻畫幾何 ...

2023年12月15日 — 微影半導體是一家專注於半導體晶片曝光設備的研發和製造的公司，正式成立於今（2023）年，總部設於台灣，並在英國設有研發中心。微影半導體擁有一支由國際 ...

2023年1月25日 — 微影製程的目的是為了在晶圓上製作圖案，隨著半導體線寬愈做愈小，電晶體密度愈來愈高，從奈米進入埃米節點的世代，挑戰著曝光設備的極限，也造就ASML ...

2023年12月18日 — 微影半導體公司是一家專注於半導體晶片曝光設備的研發和製造的公司，成立於2023年，總部設於台灣，並在英國設有研發中心。微影半導體擁有一支由國際頂尖 ...

... 微影疊對(Overlay) 能力優於現有EUV平台達70%。 DUV深紫外光微影技術. 我們的DUV深紫外光微影系統是當前半導體產業用於量產晶片的主力。ASML提供浸潤式和乾式微影解決 ...

第七章: 微影製程. • 暫時在晶圓上塗佈光阻劑. • 將設計圖案轉移至光阻劑. • 為IC製程中最重要之步驟. • 占晶圓總製程時間的40 ~50%. 光阻劑. • 光敏感物質.

2023年8月29日 — 微影製程依據在曝光過程中，用來形成圖案的的光源種類，可分成光學微影（optical）、聚焦離子束曝光（focusedion bean）、電子束微影（e-beam）、X光微影 ...