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濺鍍（sputtering）是利用電漿（plasma）對靶材料進行離子轟擊（ion bombardment），而將靶材料表面的原子撞擊出來，這些靶原子以氣體分子型式發射出來，到達欲沉積的基板 ...

實驗目的：. 以磁控射頻濺鍍的方式在玻璃上鍍鋁，使同學了解濺鍍流程。 實驗原理 ... 一般來說，濺擊原子在靶材上獲得的能量約2～30 eV，而熱蒸鍍蒸發原子能. 量約0.1 eV， ...

關掉(Stop)電漿主電源、關掉Motor. 關掉Gas valve、Ar 氣閥、Ar 氣瓶、把白色開關往下扳到Standby。 ※ Ni 的鍍率為100nm / 5mins. ※ Pt 的鍍率為100nm / 7mins. ※ TiN 的鍍 ...

圖3-3為整個實驗流程步驟，一開始在試片放入腔體之前，. 先進行預鍍(pre-sputtering)工作30分鐘，其用意為先行去除靶材表面的氧. 化物及污染物，避免鍍著不純物於試片上 ...

射頻濺鍍機的操作方法，首先是破真空，再來是將要濺鍍的靶材和晶圓. 的安裝，接下來是抽高真空，然後是設定加熱溫度，氬氣的流量和RF Power。 3. 射頻濺鍍機真空系統， ...

使用脈衝直流電漿濺鍍。其主要原理是在真空環境，將陰極加至數百伏特電壓，讓通入的氣體因高電壓而起輝光放電作用形成電漿，並利用電漿的正離子轟擊金屬靶材表面，以 ...

一額外磁場，促使電子運動軌跡沿磁力線方向以螺. 旋狀路徑迴旋前進，並將電子束縛於靶面特定環形. 區域中，藉以增加電子與氬氣分子碰撞之機率。 ○ 磁控濺射之目的旨在利用 ...