光阻劑 | 私立大學五星教授網

光阻劑（英語：photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指經過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射後，溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料，是微影製程中 ...

2023年4月5日 — 酚醛樹脂在鹼性顯影劑水溶液中相對容易溶解，但當添加DNQ時，由於DNQ分子的疏水性及其與樹脂間的氫鍵作用力，會使酚醛樹脂+DNQ的光阻組成，在顯影液中 ...

光阻，亦稱為光阻劑，是一個用在許多工業制程上的光敏材料。像是光刻技術，可以在材料表面刻上一個圖案的被覆層。 ... 正向光阻是光阻的一種，其照到光的部分會溶於光阻顯影 ...

• 光分解感光劑且切斷交連，在鹼性液中樹. 脂溶解性變更佳. • 較高之解析度( < 3 μm). • IC製程常用. Page 4. 7. 光阻之必要條件. • 高解析度. – 較薄的光阻薄膜擁有較佳的 ...

2020年8月26日 — 光阻劑分為正型光阻及負型光阻，因感光材料特性的關係，顯影結果也會有所差異。正型光阻其未被光罩覆蓋的光阻區域，在UV照射後，可被顯影液輕易的帶離 ...

正光阻(斷鍵)：被紫外光照射到的部份產生化學反應，. 使得化學鍵結變鬆散而容易被「顯影液」溶解掉。 • 負光阻(交聯)：被紫外光照射到的部份產生化學反應，.

添鴻科技的去光阻液產品可應對半導體封裝製程與光電製程，有效去除正型光阻、負型光阻、乾膜光阻，適用於spin或wet bench製程機台。除了傳統DMSO或NMP系列去光阻液，因應 ...

光阻去除劑, 乾蝕刻後殘留物去除劑 · IC製程用化學品與特殊氣體 · 半導體平整研磨液 · 石英，矽環及精細陶瓷組件 · 矽晶圓Silicon wafer. / 半導體材料 / 光阻液及顯影液 / ...