電子束誘導沉積 | 私立大學五星教授網

蒸鍍技術原理目的：物理氣相沉積（Physical vapor deposition，PVD）係利用物理過程來進行沉積薄膜的技術。所謂物理過程是物質的相變化現象，例如蒸鍍即是由將固態物質 ...

電子束蒸鍍成長薄膜的過程中沒有化學反應發生，所以屬於物理氣相沉積(PVD)，由於只需要高真空，而且蒸鍍的薄膜可以大量快速地在基板上沉積，成本較低適合工廠大量生產 ...

2016年3月11日 — 2.電子束加熱法(Electron Beam Gun Evaporation)：. 電子槍(e-gun)所產生的電子束由於磁場的作用力，而被轉向並集中至蒸鍍材料上。 此電子束是一束高 ...

電子束誘導沉積（Electron beam-induced deposition，EBID）是一種使用電子束分解氣相分子，從而在襯底上的特定位置實現沉積生長的技術。 電子束誘導沉積實驗中的電子 ...

電子束蒸鍍（Electron Beam Evaporation）是物理氣相沉積的一種。與傳統蒸鍍方式不同，電子束蒸鍍利用電磁場的配合可以精準地實現利用高能電子轟擊坩堝內靶材， ...

由 彭成浩 著作 · 2010 — 本研究係利用電子束蒸鍍法(Electron beam evaporation)將熱電晶粒Sb2Te3在玻璃上蒸鍍出Sb2Te3薄膜；並經由不同之蒸鍍製程參數及薄膜退火條件之實驗測試，以獲得較佳之 ...

Evaporation (PVD). (Joule heat or Electron beam). Dual E-gun evaporator. (交大半導體技術中心). 蒸鍍對合金或是化合物的沈. 積成份控制性差. 台灣師範大學機電科技學 ...

電子束蒸鍍（Electron Beam Evaporation）是物理氣相沉積的一種。與傳統蒸鍍方式不同，電子束蒸鍍利用電磁場的配合可以精準地實現利用高能電子轟擊坩堝內靶材，使之 ...