名稱：電子束微影系統e-beamlithography用途：電子束微影加速電壓：0.5~30kV解析度：1.0nm(30kV)、3nm(1kV)放大倍率：x25~x650,000試片座移動範圍： ...
名稱 ：電子束微影系統e-beam lithography 用途： 電子束微影 加速電壓：0.5~30 kV 解析度：1.0 nm (30 kV)、3 nm (1 kV) 放大倍率：x25 ~x650,000 試片座移動範圍： ...
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電子束微影 | 私立大學五星教授網
電子束微影（electron beam lithography）指使用電子束在表面上製造圖樣的製程，是微影技術的延伸應用。 微影技術的精度受到光子在波長尺度上的散射影響。
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物理氣相沈積PVD | 私立大學五星教授網
電子束蒸鍍法是利用高能電子束的動能轉換為熔化靶材的熱能，並利用靶材在接近熔點時的飽和蒸汽壓進行鍍膜，元素蒸氣壓請參見圖一。此法除了有很好的熱轉換效率外，蒸鍍速率 ...
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說明 | 私立大學五星教授網
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電子束加熱 | 私立大學五星教授網
電子束加熱(electron beam furnace)或譯電子束爐或簡稱EB爐(EB furnace)、e-Beam爐是一種真空爐（英語：Vacuum furnace），在真空環境下以高能電子束為媒介傳遞熱量給 ...
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電子束微影系統e | 私立大學五星教授網
名稱 ：電子束微影系統e-beam lithography 用途： 電子束微影 加速電壓：0.5~30 kV 解析度：1.0 nm (30 kV)、3 nm (1 kV) 放大倍率：x25 ~x650,000 試片座移動範圍： ...
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電子束隧道式電弧殺菌設備 | 私立大學五星教授網
SKAN 電子束(E-Beam) 隧道在每個表面上具有超過25 kGy 的輻射能量，可確保注射器或小瓶管的tubs無菌地轉移到無菌灌裝管隔離器中。隧道是專門為具有高物件輸送量的連續 ...
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以電子顯微鏡為基礎之電子束曝光機的改裝與應用 | 私立大學五星教授網
在這篇文章中，筆者簡單. 的介紹了電子束微影的技術，也敘述了我們改裝電子顯微鏡的經驗及需注意的關鍵技術。 Electron beam lithography is a quick and perfect solution ...
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Leica e | 私立大學五星教授網
此機台開放等級為B3級，使用者經訓練且通過考核後可自行操作。 2. 欲申請使用者，須先通過Track及In-Line考核後，才可以申請考核（劉正財. 先生ext:7649或7439；電子 ...
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為加速電子束(E | 私立大學五星教授網
此平台主要致力於教育及推廣新的製造設計. (design-to-manufacturing)方法，也稱作電子束導向設計(Design for e-Beam;DFEB)。藉由降低半導體設備的光罩成本，電子束導向 ...
YoshinobuKawai專任教授任職於逢甲大學材料科學與工程學系，專長為：電漿蝕刻、薄膜製程、ElectronBeamPlasma應用，以下為Yo...