微影製程實驗 | 私立大學五星教授網

微影製程（英語：photolithography 或optical lithography，中國大陸稱為光刻工藝）是半導體元件製造製程中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光阻層上刻畫幾何 ...

光學微影技術. 那微影技術的基本原理是甚麼呢？其實非常類似. 於我們日常生活中在照相及沖洗底片，只是大家需要想. 像，原本的風景或是人物是要感光在底片上，而現今的. 微 ...

第七章: 微影製程. • 暫時在晶圓上塗佈光阻劑. • 將設計圖案轉移至光阻劑. • 為IC製程中最重要之步驟. • 占晶圓總製程時間的40 ~50%. 光阻劑. • 光敏感物質. • 暫時塗佈在 ...

一般的微影製程步驟包含：晶片. 清洗、去水烘烤、塗佈HMDS (增加光阻附著性). 並烘烤、塗佈光阻、軟烤(去除光阻劑中之多餘溶. 劑)、曝光、曝後烤(加速反應或去除駐波效應) ...

2023年12月19日 — 微影製程實驗 一、目的 微影 (Photolithography) 製程的目的，主要是將光罩上的圖案轉印到基板的 光阻上，其製程包括光阻塗佈、軟烤、曝光、顯影等 ...

2023年8月29日 — 半導體晶片的製造過程，就是不斷重複進行這種曝光顯影製程。 微影製程依據在曝光過程中，用來形成圖案的的光源種類，可分成光學微影（optical）、聚焦離子 ...

正、負光阻微影製程示意圖. 台灣師範大學機電科技學系. C. R. Yang, NTNU MT. -10-. 光罩的設計技巧. ○光罩繪製是微影製程最基本步驟，透由光刻程序將光罩上的圖案的轉移.