說明 | 私立大學五星教授網

光阻劑（英語：photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指經過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射後，溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料，是微影製程中 ...

光阻，亦稱為光阻劑，是一個用在許多工業制程上的光敏材料。像是光刻技術，可以在材料表面刻上一個圖案的被覆層。 ... 正向光阻是光阻的一種，其照到光的部分會溶於光阻顯影 ...

• 顯影劑溶解光阻軟化之部分，並將光罩或. 倍縮光罩上的圖案轉到光阻上. • 三個基本步驟: 顯影, 洗滌, 旋乾. 正光阻. 負光阻. 顯影劑. TMAH. 二甲苯. 洗滌. 去離子水. 乙酸 ...

光阻經曝光後，發生交聯或分解的化學反應，改變原有化學性質，使照射區及非照射區在顯影液中的溶解速率產生極大差別，顯影液將易溶的區域溶解洗去達成顯影目的。顯影液通常 ...

2020年8月26日 — 光阻劑(Photoresist)是一種光敏感材料，由樹脂、光敏感劑、溶劑和添加劑等組成，根據曝光顯影後的變化，分為正型(Positive type)光阻劑和負型(Negative ...

光阻劑應用的配方成分20 多年以來，SACHEM 一直是用於電子應用的顯影劑電子配方成分的領先供應商。大部分顯影劑已使用四甲基氫氧化銨(TMAH) 和四丁基氫氧化銨(TBAH) ...

2023年4月5日 — G-line/I-line光阻劑的主要組成為酚醛樹脂(Novolac Resin)與感光物重氮萘(Diazo-naphtho-quinon; DNQ)。酚醛樹脂在鹼性顯影劑水溶液中相對容易溶解，但當 ...

光阻劑（英語：photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指經過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射後，溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料，是微影製程中 ...

我們的光阻劑是光敏感有機化合物，用來在表面形成圖案式塗層，主要用於生產積體電路 ... 其特性也包括高生產量、低暗蝕以及對於各種金屬膜以及用於顯影和蝕刻製程的銦錫 ...