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蝕刻製程是指介電質蝕刻或導體蝕刻，用以指明從晶圓上移除的薄膜材料類型。應用材料公司的蝕刻創新技術可滿足挑戰性持續提高的製程要求轉折點(例如: 3D NAND、EUV 圖案化和 ...

1. 1. Ch9 Etching. Introduction to. Semiconductor Processing. 2. 蝕刻(Etching). ▫. 表面物質去除化的製程: 化學蝕刻、物理蝕刻、複合蝕刻. ▫. 選擇性蝕刻或整面全區 ...

2023年12月4日 — 半導體關鍵製程包括沉積、光阻塗佈、曝光、蝕刻、離子佈植、拋光、擴散、清洗等。以設備而言，沉積設備市場約占總半導體設備市場25%；蝕刻設備則約占21%， ...

乾式蝕刻(Dry etching). ▫ 乾式蝕刻法是利用氣體分子或其. 產生的離子及自由 ... 加速蝕刻物垂直方向蝕刻率，而. 得到異向蝕刻的結果。 ▫ 氣態式及電漿式(現多採用) ...

是將某種材質自晶圓表面上移除。為了要保留未曝光的部分以製作半導體線路，必須將已曝光的部分從晶圓上除去，蝕刻製程的功能，就是要將進行微影製程前所沈積的薄膜，把 ...

刻蝕（英語：etching）是半導體器件製造中利用化學途徑選擇性地移除沉積層特定部分的工藝。刻蝕對於器件的電學性能十分重要。如果刻蝕過程中出現失誤，將造成難以恢復 ...

2023年9月27日 — PLASMA-THERM ®是一家總部設在美國的半導體設備生產商，為全球電漿蝕刻和薄膜沉積設備的領導廠商，在等離子工藝技術創新的37個專利。 VERSALINE®.

2023年9月15日 — 所謂蝕刻(etching)，是製作電子電路時， 為了形成電子線路，使用曝光方式(patterning by lithography)， 也就是積體電路(integrated circuit, ...

2020年10月6日 — 當蝕刻種源為薄膜所攜著時，晶圓板表面便將引起化學反應，反應後之物質將自表面脫離並循排氣排至外部，藉此進行蝕刻。 乾式蝕刻中，為使能夠獲得與感光圖 ...