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微影製程是將電路圖案，透過已刻好圖案的光罩及光阻，「轉印」到晶圓上的過程。舉例來說，在已有一層二氧化矽薄膜的晶圓上（見下圖），我們希望在特定位置蝕刻出一個 ...

微影製程（英語：photolithography 或optical lithography，中國大陸稱為光刻工藝）是半導體元件製造製程中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光阻層上刻畫幾何 ...

– 較薄的光阻薄膜，其抗蝕刻及抗離子佈植的. 能力較差. • 高抗蝕刻能力. • 好的附著力. • 較大的製程自由度. – 對製程條件的改變有較佳之容忍性. 8. 基本步驟. • 晶圓清洗.

蝕刻與光. 阻剝除. 4. 光罩/倍縮光罩. (Mask). 曝光. Exposure. 顯影. Development ... ▫ 極紫外線(EUV)微影技術. ▫ X光微影技術. ▫ 電子束(E-beam)微影技術. 晶圓. 遮蓋 ...

國科會精密儀器發展中心所發展之微系統製程技術，包含紫外光光阻微影技術、準分子雷射. 加工製程技術、感應耦合電漿離子蝕刻製程技術、精密電鑄製程技術及精密熱印壓模技術.

2023年8月29日 — 微影製程的技術（在基板上蝕刻出需要的電路或線路圖形），可以說是半導體製造的命脈。 在過去使用底片相機的年代，相機光圈打開、「喀嚓」聲響起的瞬間， ...

2023年12月19日 — ... 影(Photolithography)製程的目的，主要是將光罩上的圖案轉印到基板的光阻上，其製程包括光阻塗佈、軟烤、曝光、顯影等步驟；在完成微影製程後， 再以蝕刻 ...

2024年2月28日 — imec最新研發的電漿蝕刻技術不僅能達到優異的圖形化性能，還能把氣體用量降到最少，碳排放量比起現有製程減少大約16倍。(業者提供).