光罩(Photomask) | 私立大學五星教授網

事實上光學微影技術所用的光罩很. 多是用電子束微影技術作出來的。但是專業化的電. 子束曝光系統都非常龐大且昂貴，主要是供應半導. 體光罩公司使用。

傳統的電子束微. 影系統扮演的是支援積體電路工業的角色，主要的. 應用市場有三：(1) 光罩之製作，如在玻璃上精確. 定義鉻金屬或X-ray 光罩之製作等；(2) 直寫先進. 電子束 ...

光罩與光罩載入程序. 1. 光罩放置光罩盒程序……………………………………………………□. 2. 光罩資料檔載入與執行程序………..………………………………......□. 3. 光罩載入後對準檢查FRA……………………………………………

電子束微影（electron beam lithography）指使用電子束在表面上製造圖樣的製程，是微影技術的延伸應用。 微影技術的精度受到光子在波長尺度上的散射影響。使用的光波長 ...

由 CH Lin 著作 · 2005 — 在此，我們利用電子束直寫技術於PMMA和ZEP520作測試，接著利用電子束技術-鄰近效應，製作出高筆直度的奈米尺寸線寬作為光罩，藉由製作之光罩配合KrF（248nm）準分子雷射下 ...

中華凸版及母公司-凸版印刷不斷投資電子束描繪機台，擁有先進的EBM6000及EBM7500T的電子束描繪機台，對中華凸版在28nm光罩量產及14nm以下的光罩研發助益極大。 光罩介紹.

將數百萬個電晶體(CMOS)的幾何圖形第一次縮小，以電子束刻寫在石英片上就形成「光罩(Photomask)」，是製作積體電路(IC)非常重要的工具，由於電子束的直徑大約1μm(微米) ...

... 電子束光罩讀寫機（Electron Beam writer）。並且為了達到嚴謹的線寬均勻度（CD uniform）要求，電子束讀寫機必須在長期間內保持高穩定性曝光（其實是曝電子）能力。