2021年8月11日—設備原理：.原子層沉積（AtomicLayerDeposition,ALD）係藉由表面獨特自我侷限反應來成長高階梯覆蓋與大面積均勻性之薄膜。可用於奈米級或原子級 ...
2021年8月11日 — 設備原理：. 原子層沉積（Atomic Layer Deposition, ALD）係藉由表面獨特自我侷限反應來成長高階梯覆蓋與大面積均勻性之薄膜。可用於奈米級或原子級 ...
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