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濺射（sputtering），也稱濺鍍（sputter deposition/coating），是一種物理氣相沉積技術，指固體靶target（或源source）中的原子被高能量離子（通常來自電漿）撞擊 ...

Application Form. Introduction Application Operation. English Manual 中文操作手冊 簡易操作手冊. 聯絡人:張美杏 電話：(02)2730-1028 E-Mail : [email protected] ...

2016年3月11日 — 射頻濺鍍(Radio-Frequency Sputtering Deposition). 因為直流電漿無法濺射介電材料(介電質)，此時可在介電質靶背加一金屬電極且改用射頻交流電，由於 ...

英文詞彙. 中文詞彙. 學術名詞 材料科學名詞 ... anode sputter · 濺射蝕刻；濺蝕. sputter etching · 直流濺鍍. DC sputter · 鐵磁性濺鍍. ferromagnetic sputter · 射頻濺 ...

濺鍍（sputtering）是利用電漿（plasma）對靶材料進行離子轟擊（ion bombardment），而將靶材料表面的原子撞擊出來，這些靶原子以氣體分子型式發射出來，到達欲沉積的基板 ...

2016年7月13日 — 英文名稱, RF/DC Sputter ; 功能說明, 利用電漿對靶材進行離子轟擊，將靶材表面的原子以氣體分子形式發射出來，並到達所要沉積的基板上形成薄膜。 ; 廠牌 ...

2008年5月15日 — 射頻濺鍍機(RADIO FREQUENCY SUPPTER); 2. 大綱濺鍍原理真空原理機台組件介紹實作 2; 3. 濺鍍原理濺鍍：在真空下，上下兩端極板通電(基板陽極、靶材陰極) ...

談到濺鍍（Sputtering Deposition），就一定要對濺射現象（Sputtering）有基本的了解。所謂濺射，其原理跟撞球非常類似，是指固體表面受到高能量粒子的衝擊，基於動量轉移 ...