有機金屬化學氣相沉積法

有機金屬化合物化學氣相沉積法(MOCVD,Metal-organicChemicalVaporDeposition),是在基板上生長半導體薄膜的一種方法。其他類似的名稱如:金屬-有機化合物/金屬 ...

有機金屬化學氣相沉積法

有機金屬化合物化學氣相沉積法(MOCVD, Metal-organic Chemical Vapor Deposition),是在基板上生長半導體薄膜的一種方法。 其他類似的名稱如:金屬-有機化合物/金屬 ...

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