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光阻劑（英語：photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指經過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射後，溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料，是微影製程中的關鍵材料，主要應用於積體電路和離散元件的細微圖形加工。

光阻，亦稱為光阻劑，是一個用在許多工業制程上的光敏材料。像是光刻技術，可以在材料表面刻上一個圖案的被覆層。 ... 正向光阻是光阻的一種，其照到光的部分會溶於光阻顯影 ...

SCC has developed positive-type photoresist. Along with the advancement of nanotechnology, the critical resolution of photoresist is being controlledwith ...

英文詞彙. 中文詞彙. 學術名詞 電子工程名詞 · photoresist agent · 光阻劑. 學術名詞 機械工程名詞 · Photoresist agent · 光阻劑. 學術名詞 電機工程名詞 · photoresist ...

光刻胶（英語：photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指經過紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射後，溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，是光刻工艺中 ...

光阻劑（英語：photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指經過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射後，溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料，是微影製程中 ...

光阻劑（也稱為光阻），主要應用於電鍍或蝕刻等工業製程中，光阻劑一般為高分子、溶劑、光感劑等成分組成的光敏材料，並透過光反應刻上結構圖形，是影響半導體製程生產效率 ...

光阻劑應用的配方成分20 多年以來，SACHEM 一直是用於電子應用的顯影劑電子配方成分的領先供應商。大部分顯影劑已使用四甲基氫氧化銨(TMAH) 和四丁基氫氧化銨(TBAH) ...

光阻劑的英文是resist . 資料比較多的期刊J. Vac. Sci. Technol. B Jpn. J. of Appl. Phys. Microelctronic Eng. 交大都有。 如果你有什麼問題，mail 給我好了。大家 ...