先進製程技術無止境的競逐!挑戰物理極限的半導體元件材料在 ...

以目前3奈米技術節點而言,實際上閘極線寬仍維持在10奈米以上,主要是因為電晶體結構開始由平面式轉變成三維立體結構(如鰭式電晶體FinFET或閘極全環式電晶體GAAFET),提升 ...

先進製程技術無止境的競逐!挑戰物理極限的半導體元件材料在 ...

以目前3 奈米技術節點而言,實際上閘極線寬仍維持在10 奈米以上,主要是因為電晶體結構開始由平面式轉變成三維立體結構(如鰭式電晶體FinFET 或閘極全環式電晶體GAAFET),提升 ...

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