閘極蝕刻與鰭式結構對於場效電晶體特性 ... | 私立大學五星教授網

MOS管的GIDL效应是指在栅极电压较高的情况下，绝缘层下的沟道区域会发生漏电现象的现象。 这种现象是由于高电场导致绝缘层中的电子发生穿隧效应，从而形成漏电流。 GIDL效应会导致器件的功耗增加、性能下降，并可能引起电流漂移现象。

2019年6月19日 — 2) GIDL (Gate-Induced-Drain-Leakage)：栅感应漏极漏电流。 我们通常讲MOSFET漏电流(Ioff)，都知道是漏源之间亚阈值漏电流，或者Drain到Well的PN结漏电 ...

電子屏蔽效應(screening effect)，閘極控制能力必然不如汲極，故汲極會在 ... (gate-induced drain leakage)(GIDL)，. 發生於閘極電壓遠小於汲極電壓時的汲極空乏 ...

GIDL(gate-induced drain leakage) 是指栅诱导漏极泄漏电流，对MOSFET的可靠性影响较大。

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本发明提供的减小MOS IO器件GIDL效应的方法，在多晶硅栅刻蚀形成后，先进行IO器件的源漏扩展区的离子注入，然后进行多晶硅氧化形成氧化层。MOS IO器件源漏扩展区离子注入 ...

柵極與漏極重疊區域下的強電場，會導致深度耗盡區，以及使漏極和阱交界處耗盡層變薄，因而有效形成漏極到阱的電流/GIDL。/GIDL與VGD有關，一般NMOS的/GIDL ...

2019年6月19日 — 2) GIDL (Gate-Induced-Drain-Leakage)：栅感应漏极漏电流。 我们通常讲MOSFET漏电流(Ioff)，都知道是漏源之间亚阈值漏电流，或者Drain到Well的PN结漏电 ...

先描述高壓金氧半場效電晶體之優點及應用，接著介紹貫穿崩潰(punch-through BD)、接面崩潰(junction BD)、GIDL(Gate-Induced-Drain- Leakage)、以及熱載子效應之基本原理。

由 許子訓 著作 · 2007 — 而β電流增益隨基極寬度減小而增大，因此當元件通. 道縮短，會造成GIDL電流放大，此為短通道效應之一[37]。 圖4-14為在不同的閘極長度下，所觀察到的GIDL，元件在固定的Vd=0.5 V， ...