半導體用光阻劑之發展概況 | 私立大學五星教授網

正型(Positive type)光阻: 經過曝光後，受到光照的部分將在顯影時溶解，顯影後留下的是未受到曝光部分的圖案。 應用於對圖案精細度要求較高的IC產品。 負型(Negative type)光阻: 經過曝光後，顯影時則是沒受到光照的部分溶解，顯影後留下光照部分所形成的圖案。

... 显影的厚度变化。 负显影工艺和正显影工艺均使用正性光刻胶，二者的区别在于：（1）负显影工艺中使用有机显影液，而正显影工艺中使用传统的水基显影液；（2）在正显影 ...

2020年8月26日 — 正型光阻其未被光罩覆蓋的光阻區域，在UV照射後，可被顯影液輕易的帶離；反之，若光阻劑在UV照射後，顯影液無法帶離，則為負型光阻劑。光阻劑的技術研發因先進 ...

正型光阻下，顯影就是將曝光區域除去；而負型光阻則是去除未曝光區域。 · 曝光區與非曝光區在顯影過程中，就是一個溶解選擇比的問題。 · 曝光區域中因為光化學反應產生了所謂的 ...

2018年3月24日 — 负显影工艺的采用也使得亮掩模在正胶上能实现较窄的沟槽。图1是常规的显影工艺(正显影)与负显影工艺对比的示意图。在过去的光刻工艺中，显影液都 ...

2021年12月30日 — 正性和负性显影液都是碱性溶剂，其主要区别是负性显影液中含有表面活性剂(surfactant)，而正性显影液中没有这种成分。下面就简单介绍一下表面活性剂的作用。

顯影. • 顯影劑溶解光阻軟化之部分，並將光罩或. 倍縮光罩上的圖案轉到光阻上. • 三個基本步驟: 顯影, 洗滌, 旋乾. 正光阻. 負光阻. 顯影劑. TMAH. 二甲苯. 洗滌. 去離子水.

微影製程中採用的感光物質被稱為光阻，主要分為正光阻和負光阻兩種。正光阻未被光照的部分在顯影後會被保留，而負光阻膠被感光的部分在顯影後會被保留。光阻不僅需要對 ...

對正光阻而言，曝光的部分產生光化學反應，使曝光部分與沒曝光部分於顯影液中的溶解度不同，而使曝光部分被溶解，沒曝光部分則留存。 對負光阻而言則作用相反，將使使曝光 ...

如果感光層包括一正型光阻，那麼曝光部分就會被正型顯影劑溶解，進而留下未曝光的部分。 而負型顯影劑則是會將未曝光部分溶解，留下曝光部分。