蒸鍍VS濺鍍技術用於薄膜沉積方式比較 | 私立大學五星教授網

蒸鍍是利用熱能或電子束將鍍材加熱至昇華或離子化，再沉積到基材上形成膜層。 濺鍍是利用離子束轟擊鍍材，使其形成離子狀態，然後通過電場沉積到基材上形成膜層。 蒸鍍與濺鍍的製程特點不同： 蒸鍍技術可以製備高純度、高密度和高平整度的薄膜，適用於高檔玻璃、光學器件、積體電路等行業。

所謂物理過程是物質的相變化現象，例如蒸鍍即是由將固態物質經由加熱的方式使固態物質轉變為氣態，並透過真空系統使其沉積於基板上。

蒸鍍（英語：Deposition）是指將金屬和氧化物等蒸發，使其於素材的表面附著形成薄膜的方法。屬於鍍膜中的一種，可大略分為物理蒸鍍（PVD）與化學蒸鍍（CVD）兩種。

濺鍍. 蒸鍍. 台灣師範大學機電科技學系. C. R. Yang, NTNU MT. -8-. 蒸鍍原理. ○ 蒸鍍是在高真空狀況下，將所要蒸鍍的材料利用電阻或電子束加熱. 達到熔化溫度，使之熔解然後 ...

2016年3月11日 — A: 蒸鍍是在高真空狀況下，將所要蒸鍍的材料利用電阻或電子束加熱達到熔化溫度，使之熔解然後氣化，此時氣態之薄膜材料之原子或分子因同時具有加溫後的 ...

利用升高薄膜材料之溫度使其熔解然後氣化(或是由. 固體昇華為氣體)，氣態薄膜材料之原子或分子因具. 有加溫後之動能，至基板形成固體的薄膜。 □熱電阻加熱法. □電子槍蒸鍍法.

透過真空幫浦使腔體達10 -3～10 -4 Pa的真空度，將金屬、氧化物或氟化物等欲蒸鍍的材料加熱，使之熔解氣化，此時氣態薄膜材料之原子或分子會因加熱後所獲得之動能而飛向基板，並 ...

2021年8月12日 — 而此機台即是應用此技術在真空下，對被蒸鍍物體加熱，利用被蒸鍍物(如鋁、鉻)在高溫下所具備的飽和蒸氣壓來進行薄膜的沉積。 蒸鍍原理. 儀器圖片：. 蒸鍍機.

... 蒸鍍(Evaporation)、濺鍍(Sputter)兩種形式，蒸鍍原理主要在高真空腔體中，放入所要蒸鍍之材料，藉由電熱絲或電子束加熱升溫達熔化、氣化溫度使材料蒸發，附著在基板 ...

熱阻式蒸鍍技術的原理是在高真空環境中，將所欲蒸鍍的材料放置在金屬舟（metal boats）或坩鍋（材質可為PBN或石英等）中，利用電流通過加熱體時因電阻產生的溫度對材料做 ...