TWI548939B | 私立大學五星教授網

2023年4月5日 — 酚醛樹脂在鹼性顯影劑水溶液中相對容易溶解，但當添加DNQ時，由於DNQ分子的疏水性及其與樹脂間的氫鍵作用力，會使酚醛樹脂+DNQ的光阻組成，在顯影液中的溶解 ...

增幅放大的光阻成像系統，被稱為化學 增幅型光阻(Chemically Amplified Photoresist, CAP)。 在大部份的化學增幅型光阻系統 中，引發一連串造成溶解度改變之催化 反應，通 ...

本發明是關於適用於超微影製程(諸如製造VLSI或大容量微晶片)以及其他光製造製程且能夠藉由使用電子束或極紫外線形成輪廓高度清晰之圖案(highly defined pattern)的化學增幅 ...

•平滑光阻邊緣及改善解析度. 106. Page 107. Post Exposure Bake. •對於DUV的化學增強型光阻, PEB提供了酸. 擴散與增強時所需的熱量. •在PEB製程之後由於酸增強作用產生 ...

... 化學增幅型(CA)機制來使光阻劑更有效率的應用光能。CA光阻劑中的光酸產生劑在光激發後會產生強酸，而光阻劑在酸及熱的催化下，進行極性改變或交聯化，分別得到正型及負型 ...

光阻劑（英語：photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指經過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射後，溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料，是微影製程中的關鍵 ...

在本課題中，將展示最新技術路線圖，並著重介紹支援3nm及以後邏輯節點的微影和光阻劑尖端技術，並總結未來前景和市場趨勢。 一、路線圖 1-1 IRDS路線圖 1-1-1 微影所需的特性 ...

光阻是一種感光劑材料，對光線十分. 敏感，一旦曝光則會引起其分子結構和化學性質的改變，遭受曝光區域的光阻. 會由一種可溶解狀態轉變為不可溶解，此種光阻稱“負型光阻＂，其 ...

2020年8月26日 — ... 光阻劑即是微影製程中最關鍵的角色之一。光阻劑分為正型光阻及負型光阻，因感光材料特性的關係，顯影結果也會有所差異。正型光阻其未被光罩覆蓋的光阻 ...