讓摩爾定律成真的關鍵： 微影技術— 影響七十億以上個未來 | 私立大學五星教授網

微影製程（英語：photolithography 或optical lithography，中國大陸稱為光刻工藝）是半導體元件製造製程中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光阻層上刻畫幾何圖形 ...

微影製程是將電路圖案，透過已刻好圖案的光罩及光阻，「轉印」到晶圓上的過程。舉例來說，在已有一層二氧化矽薄膜的晶圓上（見下圖），我們希望在特定位置蝕刻出一個 ...

簡單玩微影曝光. 述的微影製程我們可以利用夜光膠帶、手電筒、深色色紙(圖四)來玩玩看。在暗室中，(1)將深色色紙挖開圓形的洞。 (2)挖洞的色紙蓋在夜光膠帶上。 (3)用手電筒 ...

2022年8月2日 — 自光學微影技術出現以來，積體電路（Integrated circuit, IC）的體積跟隨著摩爾定律不斷縮小，到我們踏入5 奈米量產世代的今日，IC 可以說足足縮小了百萬倍 ...

上述的微影技術是採用光學方法來執行的，由於這種技術非常適合量產，所以半導體工業一直以. 來都是採用此法，但現今由於製程持續地演進，已經逐漸逼近光學微影解析度的極限。

第七章: 微影製程. • 暫時在晶圓上塗佈光阻劑. • 將設計圖案轉移至光阻劑. • 為IC製程中最重要之步驟. • 占晶圓總製程時間的40 ~50%. 光阻劑. • 光敏感物質.

微影品質可分成四大類：光阻分佈控制、疊層、下游相容性以及量產可行性。 光阻分佈控制 是線寬(CD)控制標準的超集合。對於許多顯影步驟而言，以正確尺寸刻出 ...

2023年1月25日 — 目前最普遍的微影製程，是使用雷射光束搭配光罩進行投影製作圖案在晶圓上。但是隨著目標線寬愈來愈細，曝光機使用更先進的光學鏡組和演算法，使得最新的先進 ...