接著放入500ml次氯酸水(可省略),靜待3分鐘將水體殺菌,去除雜菌。接著放入500ml經高壓滅菌-光合菌NS液態培養基。接著放入500ml光合菌液,
接著放入500ml 次氯酸水(可省略),靜待3分鐘將水體殺菌,去除雜菌。 接著放入500ml 經高壓滅菌-光合菌NS液態培養基。 接著放入500ml 光合菌液,相關分類資訊
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