蒸镀靶材真空镀膜优点和缺点 | 私立大學五星教授網

蒸鍍技術可以製備高純度、高密度和高平整度的薄膜，適用於高檔玻璃、光學器件、積體電路等行業。 濺鍍技術適用範圍廣，可以製備大面積、厚度均勻的薄膜，且其薄膜質量在某些方面如附著力和耐腐蝕性等方面比蒸鍍技術更優秀。 例如需要重視剝離強度(拉力強度)的鍍膜就建議採用濺鍍方式才能達到要求。

濺鍍優點,真空度要求較低，機體較小，容易連續化製程，膜層附著性較優.濺鍍缺點:材料選擇性較少、不易鍍多層膜。蒸鍍優點:設備較便宜,可鍍多層膜. 蒸鍍缺點:設備機體較大， ...

PVD的缺點︰. ▫ 階梯覆蓋(Step coverage)能力較差(CVD>濺鍍>真空蒸鍍. >E-gun). ▫ 沈積薄膜的純度不易控制(蒸鍍時坩鍋材質亦會析出附著). ▫ 對合金或是化合物的沈積成份 ...

2016年3月11日 — A: 濺鍍是利用電漿獨特的離子轟擊，以動量轉換的原理在氣相中製備沈積元素，以便進行薄膜沈積的物理氣相沈積技術。 而濺鍍之沈積機制，大致上可分為： 1. ...

濺鍍對於真空的要求並不如蒸鍍來的高，機體容量較小，容易實現連續化的製程，膜層的附著性也較優。 濺鍍缺點: 設備及靶材單價較高、氧化物及氟化物材料較難做成高品質靶材 ...

2022年7月13日 — 蒸鍍技術利用加熱或電子束撞擊將真空腔內的原料蒸發氣化，氣化的材料因熱動能飛向腔體上端的基板並在基板表面凝結形成固體薄膜，在設備與製程成本較低，且可 ...

蒸镀靶材受熔点限制，太高熔点的不易采用。 真空蒸镀不过UV油，其附着力较差，要保证真空蒸镀的附着力，均需后续进行特殊 ...

與濺鍍的方式相比，有鍍率快、材料的使用效率高的優點，可降低製程成本，加上系統設計簡單，除了易維護外，在製程中監控厚度也較為容易，於設備中裝入多個坩堝，可於不破 ...

所謂物理機制是指蒸鍍源物質的相變化，如由固態轉化為氣態（蒸鍍），或由氣態轉變為電漿態（濺鍍）進行薄膜的沉積。 ... 蒸鍍系統優點. 可大面積成長薄膜，且腔體多設計為可容納多片 ...