Ch7 Plasma

電漿是由中性原子或分子、負.電(電子)和正電(離子)所.構成.•在大部分的電漿...行氧蝕刻製程e−+CF.4.→CF.3.+F+e−.4F+SiO.2.→SiF.4(g).+O.

Ch7 Plasma

電漿是由中性原子或分子、負. 電(電子)和正電(離子)所. 構成. • 在大部分的電漿 ... 行氧蝕刻製程 e− + CF. 4. → CF. 3. + F + e−. 4F + SiO. 2. → SiF. 4(g). + O.

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