光阻材料 | 私立大學五星教授網

光阻劑（英語：photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指經過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射後，溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料，是微影製程中 ...

2023年4月5日 — 目前，EUV光阻材料仍以化學增幅型光阻為主。相較於KrF、ArF光阻曝光之光子吸收以光酸產生劑分子為主，EUV曝光機制不同，光子可被光阻內的任何原子吸收， ...

2020年8月26日 — 光阻劑為晶圓代工廠中，於微影製程之前，所需塗佈於晶元上之關鍵材料，如此晶圓方能進行後續電路加工製作，為更明確說明光阻劑於複雜的IC生產流程之使用 ...

我們的光阻劑是光敏感有機化合物，用來在表面形成圖案式塗層，主要用於生產積體電路和用於顯示器面板。我們材料的知名特色，是在大型玻璃基板上具有高度一致的塗料品質 ...

光阻，亦稱為光阻劑，是一個用在許多工業制程上的光敏材料。像是光刻技術，可以在材料表面刻上一個圖案的被覆層。 ... 正向光阻是光阻的一種，其照到光的部分會溶於光阻顯影 ...

光阻劑（也稱為光阻），主要應用於電鍍或蝕刻等工業製程中，光阻劑一般為高分子、溶劑、光感劑等成分組成的光敏材料，並透過光反應刻上結構圖形，是影響半導體製程生產效率 ...

2023年5月9日 — 光阻材料是有機物一般以碳、氫、氧化合物為主體，一般都用硫酸根或氫氧根離子破壞碳氫氧鍵，達到光阻去除的目的，傳統光阻剝離劑多是採用DMSO (二甲基亞碸) ...

半導體光阻為形成高密度且多層結構電路時，製程上不可或缺的感光材料。住友化學以基礎深厚的化學合成技術為根本，開發完整的光阻產品線，包含i-line、KrF、ArF和最先端 ...

• 顯影劑溶解光阻軟化之部分，並將光罩或. 倍縮光罩上的圖案轉到光阻上. • 三個基本步驟: 顯影, 洗滌, 旋乾. 正光阻. 負光阻. 顯影劑. TMAH. 二甲苯. 洗滌. 去離子水. 乙酸 ...