曝光顯影製程 | 私立大學五星教授網

微影製程（英語：photolithography 或optical lithography，中國大陸稱為光刻工藝）是半導體元件製造製程中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光阻層上刻畫幾何 ...

微影製程是將電路圖案，透過已刻好圖案的光罩及光阻，「轉印」到晶圓上的過程。舉例來說，在已有一層二氧化矽薄膜的晶圓上（見下圖），我們希望在特定位置蝕刻出一個 ...

• 經由曝光製程將設計圖案轉移其上. • 非常類似於塗佈在照相機上的光敏. 感物質. 2. 光阻劑. 負光阻. • 經曝光後變不可. 溶. • 經顯影製程，未. 曝光部分溶解. • 較便宜.

列出組成光阻(photoresist)的四個成分. •敘述正光阻(+PR)和負光阻(−PR)的差異. •敘述微影製程(photolithography)的順序. •列出四種對準(alignment)和曝光(exposure) ...

經顯影製程，未曝光部. 分溶解. ▫. 較便宜. 正光阻. ▫. 經曝光後變可溶. ▫. 經顯影製程，曝光部分. 溶解. ▫. 解析度較佳. ▫ 光敏感物質. ▫ 暫時塗佈在晶圓上表面. ▫ ...

... 微影製程的曝光光源，最後的成品就是微影製程的結果。簡言之，我們經由簡易的微影製程將光罩上所有圖形轉移到晶圓上了。我們是在暗室中完成實驗過程，實際的微影製程是 ...

○光罩繪製是微影製程最基本步驟，透由光刻程序將光罩上的圖案的轉移. 至光阻 ... ○曝光(exposure)與光罩對準(mask align). 台灣師範大學機電科技學系. C. R. Yang, NTNU ...

2023年1月25日 — 半導體微影製程中的曝光機、光阻塗佈/去除、光罩製作/清洗/修補/傳載/儲放、量檢測等設備，組成一個微影製程設備生態系。在這個生態系中的各種設備 ...