magnetron sputtering中文 | 私立大學五星教授網

於濺鍍源(cathode)內加裝磁控裝置，藉著磁場與電場間的電磁效應，所產生的電磁力來影響電漿內電子的移動，使得電子將進行螺旋式的運動。

磁控濺射或磁控濺射法、磁控濺射技術（英語：magnetron sputtering）是在濺射的基礎上，運用靶板材料自身的電場與磁場的相互電磁交互作用，在靶板附近添加磁場，使得二次電子 ...

磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程，和靶原子碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程。在这种级联过程中某 ...

磁控濺鍍系統的種類可以分為平衡式磁控濺鍍（balanced magnetron sputtering）與非平衡式磁控濺鍍（unbalance magnetron sputtering）；又因. 電源輸入的方式不一樣，可以分為 ...

磁控溅射或磁控溅射法、磁控溅射技术（英语：magnetron sputtering）是在溅射的基础上，运用靶板材料自身的电场与磁场的相互电磁相互作用，在靶板附近添加磁场，使得二次电子 ...

由 吳錦裕 著作 · 2009 — 本文介紹最新鍍膜技術－高功率脈衝磁控濺射(High Power Impulse Magnetron Sputtering, HIPIMS)，以及國內外研發進展。高功率脈衝電源以快速開關控制陰陽極放電， ...

高功率脈衝磁控濺鍍(HiPIMS) ... HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering)將是鍍膜技術的主流，它結合了目前市場上常見塗層技術和方法的所有優點。

由 葉雲友 著作 · 2011 · 被引用 1 次 — 本研究以射頻磁控濺鍍法（RF magnetron sputtering），使用高純度金屬鈦為靶材，利用一階氧化製程且不另外加熱方式將二氧化鈦（Titania, TiO2）薄膜直接沉積於玻璃基材上， ...

談到濺鍍（Sputtering Deposition），就一定要對濺射現象（Sputtering）有基本的了解。所謂濺射，跟撞球原理非常類似，是指固體表面受到帶有高能量粒子的衝擊，基於動量轉移（ ...