pecvd應用 | 私立大學五星教授網

此系統擁有良好之均勻性(<3%) 以及半導體製造過程中所需的階梯覆蓋及隙縫填補能力，可應用在保護層、隔離層和介電絕緣層沉積以及光罩(hard mask) 等制程應用，提供MMIC、VCSEL、藍光LED、LD 等光電與通訊半導體元件以及太陽能產業的必要制程設備。

本公司推出的PECVD 是一部單腔制程的電漿輔助化學氣相沉積系統，適用於200mm晶圓製造以及Ⅲ-Ⅴ族晶圓制程，可沉積製造薄膜包括氮化矽(SiNX) 和氮化矽氧化矽(SiO2) 碳化矽(SiC) ...

PECVD比半導體行業中的其他CVD技術更廣泛地使用，且可以在較低的工作溫度（低於350°C）下沉積薄膜，並具有不同形狀的均勻沉積與良好的覆蓋率。SYSKEY的系統可以精準的控制製程 ...

電漿增強化學氣相沉積法（Plasma-Enhanced CVD，PECVD）：利用電漿增加前驅物的反應速率。PECVD技術允許在低溫的環境下成長，這是半導體製造中廣泛使用PECVD的最重要原因。

化學氣相沉積的優缺點與應用 · 均勻性：CVD技術可以在整個基板表面均勻地沉積薄膜，使其非常適合大面積製造。 · 控制性：通過控制前體物質的供應和反應條件，可以調整薄膜的成分 ...

SPTS的Delta PECVD​​ 系統可用於微機電，化合物半導體和高級封裝行業中的廣泛應用，尤其是在需要低處理溫度的應用中。

與傳統的CVD方法相比，PECVD可以在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜質量。 PECVD比半導體行業中的其他CVD技術更廣泛地使用，且可以在較低的工作溫度（ ...

業界領先的應用材料AKT-PECVD 平台可在用來製造液晶顯示 (LCD) 面板的大面積玻璃基板上沉積絕緣薄膜。實際上，韓國、中國、台灣和日本每一家主要的薄膜電晶體液晶顯示器 ...

Lam Research的PECVD產品能以高生產力為各種元件應用提供精密的介電層薄膜沉積。 先進封裝, 互連, 先進記憶體, 光電與光子, 分立與功率元件 ...

因為PECVD是藉由電漿輔助方式，而不是利用高溫來製造薄膜。 因此，它可以被廣泛地使用在低熱預算的製程中，並且可以達到高沉積速率之要求。