rf magnetron sputtering中文 | 私立大學五星教授網

摘要 本研究以射頻磁控濺鍍法（RF magnetron sputtering），使用高純度金屬鈦為靶材，利用一階氧化製程且不另外加熱方式將二氧化鈦（Titania, TiO2）薄膜直接沉積於玻璃基材上，成功製作出TiO2 光觸媒玻璃。

磁控濺射或磁控濺射法、磁控濺射技術（英語：magnetron sputtering）是在濺射的基礎上，運用靶板材料自身的電場與磁場的相互電磁交互作用，在靶板附近添加磁場，使得二次電子 ...

... (DC magnetron sputtering). 與射頻磁控濺鍍(RF magnetron sputtering)兩種，所使用靶材的種類亦受到. 限制，如直流濺鍍系統只能進行金屬薄膜製鍍；射頻濺鍍系統不論是 ...

射頻濺鍍機（RF sputtering）可以用絕緣物來做靶材料。射頻能加到靶. 的背面，以電容耦合到正面。RF 電漿中，電子和離子的移動率差別，使 ...

2016年3月11日 — A: 電漿濺鍍法係在低真空度中(一般為在真空中充氬氣-Ar)及高電壓下產生輝光放電形成電漿，攜帶能量之正離子(Ar+)飛向陰極，轟擊陰極之薄膜材料(稱之為靶 ...

磁控濺鍍(Magnetron of sputteirng)​​ 螺旋式的運動將使得電子從電漿裡消失前所行經的距離拉長，因此增加電子與氣體分子間的碰撞次數，而使得氣體分子離子化的機率大增，便 ...

談到濺鍍（Sputtering Deposition），就一定要對濺射現象（Sputtering）有基本的了解。所謂濺射，跟撞球原理非常類似，是指固體表面受到帶有高能量粒子的衝擊，基於動量轉移（ ...

由 謝宜峰 著作 · 2005 — Film by RF Magnetron Sputtering Using Al-doped ZnO. Nanotargets. 學生姓名：謝宜峰(Y.F. Hsieh). 指導教授：謝宗雍博士(Dr. T.-E. Hsieh). 中華民國94 年9 月. Page 2 ...

2024年4月3日 — 工艺简单，适用于金属薄膜的沉积。 射频磁控溅射（RF Magnetron Sputtering）. 使用射频电源进行溅射，适用于导电和非导电靶材。

由 謝富任 著作 · 2011 — 利用射頻磁控濺鍍（RF magnetron sputter）將ITO沉積於玻璃基板以及可撓式塑膠PET和PEN基板上，並增加功率、降低壓力和調整適當膜厚可以在室溫下得到不錯的導電率和穿透率。