ALD藉由將材料一層一層成長在基板表面，雖然在成長速度上比傳統的物理氣相沈積(PhysicalVaporDeposition,PVD)與化學氣相沈積(ChemicalVaporDeposition,CVD)薄膜製程 ...
ALD藉由將材料一層一層成長在基板表面，雖然在成長速度上比傳統的物理氣相沈積(Physical Vapor Deposition, PVD)與化學氣相沈積(Chemical Vapor Deposition, CVD)薄膜製程 ...
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