2022年3月23日—化學氣相沉積法﹙ChemicalVaporDeposition﹚...化學氣相沉積法簡稱為CVD,科學家把碳原子放入離子氣體反應器,在低壓力和高溫下﹙約700°C-1300°C﹚培育 ...
2022年3月23日 — 化學氣相沉積法﹙Chemical Vapor Deposition﹚ ... 化學氣相沉積法簡稱為 CVD,科學家把碳原子放入離子氣體反應器,在低壓力和高溫下﹙約700°C-1300°C﹚培育 ...
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