半導體光阻材料技術 | 私立大學五星教授網

光阻劑（英語：photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指經過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射後，溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料，是微影製程中 ...

2020年8月26日 — 光阻劑分為正型光阻及負型光阻，因感光材料特性的關係，顯影結果也會有所差異。正型光阻其未被光罩覆蓋的光阻區域，在UV照射後，可被顯影液輕易的帶離； ...

2023年4月5日 — G-line/I-line光阻劑的主要組成為酚醛樹脂(Novolac Resin)與感光物重氮萘(Diazo-naphtho-quinon; DNQ)。酚醛樹脂在鹼性顯影劑水溶液中相對容易溶解，但當 ...

由於LED電極所使用的金屬材料不易經由蝕刻的方式製作電路圖形， 所以利用拔起（Lift-off）微影制程，得到突起的（Overhang）光阻圖形， 使金屬在蒸鍍過程中不會連續性滿布 ...

2023年5月9日 — 光阻剝離的過程一般分為膨潤跟溶解兩步，會先膨潤先打斷光阻的碳氫氧鍵，讓長鏈高分子變成小分子的有機物，再用界面活性劑包覆、溶解至溶劑中，而達到洗淨 ...

• 顯影劑溶解光阻軟化之部分，並將光罩或. 倍縮光罩上的圖案轉到光阻上. • 三個基本步驟: 顯影, 洗滌, 旋乾. 正光阻. 負光阻. 顯影劑. TMAH. 二甲苯. 洗滌. 去離子水. 乙酸 ...

2012年7月5日 — 光阻劑分為正型光阻及負型光阻，兩者微影製程流程皆相同，但因感光材料特性的關係，使顯像結果完全不同。正向光阻其照到光的部分會溶於光阻顯影液，而沒有 ...