半導體,PCB,LED

A.半導體,PCB,LED,LCD相關領域之濕蝕刻設備(Wet-Bench)廠務中央供酸系統客製化製造,管路修改,設備維修,機台保養.·1.廠務中央供酸系統,SCRUBBER修改,維修,保養·1.

半導體,PCB,LED

A. 半導體,PCB,LED,LCD 相關領域之濕蝕刻設備(Wet-Bench) 廠務中央供酸系統客製化製造,管路修改,設備維修,機台保養. · 1. 廠務中央供酸系統,SCRUBBER 修改,維修,保養 · 1.

  • Chemcut | 私立大學五星教授網

    Chemcut - 濕法蝕刻設備 · 乾膜顯影•銅蝕刻•鈦/鎢蝕刻 · 晶圓Bumping 濕法工藝: · 光阻顯影:與Pad 製作類似•光阻剝離:需要高噴灑壓力(30 - 40 bars) •種子層(UBM) 蝕刻 ...

  • Wet Process 濕蝕刻設備 | 私立大學五星教授網

    Wet Process 濕蝕刻設備 · 全機槽體、管路、線材、機構皆有防爆與導靜電設計,安全性高 · 軟體皆為GPM自行開發設計,可配合製程&設備部門要求即時修改 · 可調整Bench流場、 ...

  • 濕式蝕刻設備 | 私立大學五星教授網

    濕式蝕刻機為設計符合製程條件的環境設備。 本參選產品『濕式蝕刻機』為對應G6世代以上的大尺寸金屬濕式蝕刻設備,運用於Cu蝕刻、AL蝕刻、ITO蝕刻、IGZO蝕刻製程,採用 ...

  • 奇裕集團 | 私立大學五星教授網

    特性 · 1. 濕式化學清洗(蝕刻)設備: 可客製化設計製作; 使用進口材質及多處採用一體化無拼接設計,不易產生particle及漏液情況,低維修成本。 · 2. 中央化學溶液供給系統( ...

  • 槽式清洗蝕刻設備 | 私立大學五星教授網

    產品廠牌: APET; 產品簡述: 濕式蝕刻去除晶圓表面薄膜或顆粒. 原廠國家:韓國 製程應用:薄膜去除、顆粒清潔、消除矽片應力、矽片再生

  • 批次式晶圓濕製程設備(Wet Bench Process) | 私立大學五星教授網

    2023年11月1日 — 支持薄膜前清洗(Clean)、蝕刻(Etching)、蝕刻後清潔和光阻剝離(Strip)等傳統濕法製程。全新開發的設備功能,可實現更小佔地面積、卓越生產力、極佳 ...

  • Wet Process 濕蝕刻設備 | 私立大學五星教授網

    Wet Process 濕蝕刻設備 · 搭配高效能的二流體洗淨元件,有效提升洗淨能力 · 薄化清洗機專用洗淨元件配置,大幅增強清洗力並降低基板破片率 · 零件更換時間短, 容易維修及 ...

  • 高階濕制程清洗設備 | 私立大學五星教授網

    高階濕制程清洗設備 ; 1.晶圓清洗: 高效FFU及排風系統,高度潔淨及安全的環境,達到ISO Class3潔淨度標準。 清洗後高潔淨度表現。 ; 2.濕法蝕刻/顯影: 高均勻性蝕刻及顯影。

  • 半導體,PCB,LED | 私立大學五星教授網

    A. 半導體,PCB,LED,LCD 相關領域之濕蝕刻設備(Wet-Bench) 廠務中央供酸系統客製化製造,管路修改,設備維修,機台保養. · 1. 廠務中央供酸系統,SCRUBBER 修改,維修,保養 · 1.

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