反應式離子蝕刻機 | 私立大學五星教授網

Lam Research的電漿蝕刻系統可提供形成精確結構所需的高效能、高生產力功能─ 無論是高且窄、短且寬、還是僅有幾奈米大小的結構均適用。 電漿蝕刻. 產品 ...

複合式高密度電漿蝕刻機 ; 產品型號 · PREE-BIR2010 / BI2R2010 ; 檔案. 型錄下載 ; 全球據點. See Locations 全球據點 ; 傳真 · +886-2-2601-8854 ...

1. 腔體內特殊流場設計提高電漿均勻性 · 2. 適用6、8、12 inch wafer或者方形尺寸(配合部件調整) · 3.單次製程多片產出提升WPH · 4.高頻電漿應用，有效提升製程效率並降低電漿 ...

電漿蝕刻機. 電漿蝕刻機PI01. 適用於太陽能電池製程，對矽晶片之邊緣做蝕刻. 更多詳細 · +886-6-232-3927 +886-6-201-3306 · 聯絡我們. 產品介紹. 常壓電漿設備 ...

反應性離子電漿蝕刻機 · 可達成非等向性、高深寬比之蝕刻目標。 · 依客戶需求，可以處理6吋、8吋、12吋晶圓，最大可以處理660 mmx 660 mm的板子。 · 可以使用自由基或離子 ...

蝕刻製程會移除晶圓表面的特定區域，以沉積其它材料。 「乾式」(電漿) 蝕刻主要用於形成電路的製程步驟；「濕式」蝕刻(使用化學槽浴) 則用於清潔晶圓表面。

摘要：電漿蝕刻製程在半導體晶片製造中為相當成熟的前段製程技術，已廣泛被應用於微機電(MEMS)微加工與立體(3D)封裝中的穿孔蝕刻等流程，而近年來因應後段半導體製程之晶 ...

專利設計之特殊電漿電極; 高密度電漿源; 處理速度快、產能高、可靠度高; 可選擇的操作參數多; 設備穩定度高，容易維護; 全自動且容易操作; 可依客戶需求作更改.

只有已通過訓練及檢定之使用者允許操作本儀器。 ... 製程完畢後，清腔時務必放置dummy wafer。 請自備4吋/8吋之dummy wafer。 嚴禁鐵、鈷、鎳，銅，金。