,由章詠湟著作—這篇文章將詳細介紹製程原理、儀器設備與半導體工業上的應用。Atomiclayerdeposition(ALD)hasattractedalotofattentionrecentlyforitsexcellentdeposition.,ALD技術具有極佳的薄膜成長厚度控制性、階梯覆蓋性與大面積均勻性，此具有極高的應用價值，例如在元件越做越小的半導體產業中，ALD已逐步取代傳統鍍膜製程。例如在鰭 ...,2023年4月5日—ALD製程中，前驅物分子會於基材表面反應形成單層薄膜，因此在分子的設計上需要有高反應性、高熱穩定性、低副產物殘留等要素，才能有效應用於ALD領域。【 ...,利用ALD技術成長Al...
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