,感應耦合電漿（ICP）蝕刻是在標準反應離子蝕刻（RIE）的基礎上，添加電感耦合電漿的。感應耦合電漿由磁場圍繞石英晶體管所提供。產生的高密度電漿被線圈包圍，將充當變壓器 ...,離子蝕刻兼具物理與化學的特性，係適當的選擇與薄膜進行反應(蝕.刻)之氣體，通入反應室中並解離成電漿，並施與一偏壓，讓離子轟擊與.電漿蝕刻同時進行，所以具有某種 ...,反應離子蝕刻（英文：Reactive-IonEtching，或簡寫為RIE）是一種半導體生產加工工藝，它利用由電漿體強化後的反應離子氣體轟擊目標材料，來達到刻蝕的目的。,2022年10月18日—它的基本...
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