CVD是基板暴露在一種或多種揮發性前驅物的一個製程；這些前驅物會在基板表面上發生反應或分解，以產生所需的薄膜沉積物。CVD製程可用於廣泛的應用領域。
CVD 是基板暴露在一種或多種揮發性前驅物的一個製程；這些前驅物會在基板表面上發生反應或分解，以產生所需的薄膜沉積物。CVD 製程可用於廣泛的應用領域。
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