化學氣相沉積法

2014年5月2日—化學氣相沉積法(ChemicalVaporDeposition;CVD)是半導體工業中應用最廣泛、用來沉積多種物料的技術,包括大部分絕緣物料、大多數金屬物料和金屬合金 ...

化學氣相沉積法

2014年5月2日 — 化學氣相沉積法(Chemical Vapor Deposition;CVD)是半導體工業中應用最廣泛、用來沉積多種物料的技術,包括大部分絕緣物料、大多數金屬物料和金屬合金 ...

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