由章詠湟著作—(ALD)具備幾乎100%的階梯覆蓋能力、低溫製.程、高品質薄膜沉積技術及精準的膜厚控制，使得.原子層沉積系統逐漸受到重視，並為未來的薄膜沉.積技術開啟嶄新的一頁。二 ...,原子層沉積（英文：Atomiclayerdeposition）是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積（化學氣相沉積）有相似之處 ...,原子層沉積(AtomicLayerDeposition，ALD)最早稱為原子層磊晶(AtomicLayerEpitaxy，ALE)，ALD也是一種化學氣相沉積技術(CVD)，與傳統CVD的差異在於：ALD是將一個 ...,ALD藉由將材...
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