化學氣相沉積（英語：chemicalvapordeposition，簡稱CVD）是一種用來產生純度高、效能好的固態材料的化學技術。半導體產業使用此技術來成長薄膜。典型的CVD製程是將 ...,2023年9月27日—化學氣相沉積（ChemicalVaporDeposition，簡稱CVD）是一種常見的薄膜成長技術，通常用於固體表面上製造具有特定性質和厚度的薄膜。使用化學氣相沉積設備 ...,化學氣相沉積（英語：chemicalvapordeposition，簡稱CVD）是一種用來產生純度高、效能好的固態材料的化學技術。半導體產業使用此技術來成長薄膜。典型的CVD製程是將 ...,2024年1月19日—CVD製...
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